Мишени: Al, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Mo, W, TiN, ZrO, ITO, TiO2, Al2O3
Количество магнетронов: 2 (DC и RF)
Диаметр мишени: 3″ (76.2 мм) для DC и 2″ (50 мм) для RF
Температура нагрева подложки: до 200°С
Диаметр образца: до 100 мм
Давление в камере: 0.2 – 2 Па
Предельный вакуум: 10-3 Па
Мощность источника плазмы: 2 кВт (DC) и 1.5 кВт (RF)
Технологические газы:
Очистка образца: ионная, Ar